eine Nachricht hinterlassen
Wenn Sie an unseren Produkten interessiert sind und mehr Details erfahren möchten, hinterlassen Sie bitte hier eine Nachricht. Wir werden Ihnen so schnell wie möglich antworten.
Um dem branchenweiten Problem der hohen Abhängigkeit von importierten Kernlichtquellen in der High-End-Fertigung zu begegnen, hat GMY Partnerschaften mit Herstellern von nachgelagerten Anlagen geschlossen, um gezielte Forschung und Entwicklung zu betreiben. Dank seiner technologischen Expertise in den Bereichen Fotoreinigung, Photopolymerisation, Oberflächenmodifizierung, Flüssigkeitssterilisation und industrielle Abgasbehandlung bietet GMY kosteneffiziente optische Anwendungslösungen, die die strengen Prozessanforderungen der Präzisionsindustrie mit stabiler Strahlungsleistung erfüllen.
Die hochenergetische Quantenstrahlung von 172 nm Excimer-UV-Licht spaltet die Molekülketten organischer Schadstoffe auf der Materialoberfläche auf und regt gleichzeitig bioaktiven Sauerstoff und freie Radikale an. Dadurch werden verbleibende organische Stoffe sofort oxidiert und zu gasförmigem CO₂ und H₂O abgebaut. Dies ermöglicht eine berührungslose und chemikalienfreie, ultrareine Oberflächenbehandlung.
Wir bieten innovative Lösungen an, die in folgenden Bereichen weit verbreitet sind:
Durch die Nutzung der 172-nm-Excimerlaser-Oberflächenmattierungs- und Härtungstechnologie werden Polymerbindungen mittels einer spezifischen, hochenergetischen Wellenlänge direkt aufgebrochen, wodurch eine Hochgeschwindigkeits-Vernetzungsreaktion zwischen Monomeren und Oligomeren initiiert wird. Im Vergleich zur herkömmlichen Breitband-UV-Härtung ermöglicht dieses Verfahren eine präzise Mikrostrukturierung der ebenen Oberfläche und erzielt in kürzester Zeit einen gleichmäßigen Mikrofaltungs-Mattierungseffekt. Dies führt zu einer signifikanten Verbesserung der Oberflächenhärte und Kratzfestigkeit.
Geeignet für folgende Anwendungsbereiche:
Durch die Kombination einer 185-nm-UV-Lichtquelle mit einer 172-nm-Excimerlampentechnologie wird eine leistungsstarke photochemische Reaktion in Rohrleitungen ausgelöst. Die photokatalytische Spaltung von Wassermolekülen erzeugt hochreaktive Hydroxylradikale, die den restlichen organischen Kohlenstoff (TOC) im Wasser vollständig oxidieren und in CO₂ und H₂O zersetzen. Die 172-nm-Excimerlichtquelle mit ihrer höheren Photonenenergie ermöglicht eine hocheffiziente TOC-Reduktion in Reinstwasser- und Ultrahochreinheitswassersystemen.
Erhöhung der Oberflächenenergie:
Durch die Strahlungsintervention von 172-nm-Excimerlicht werden Kohlenwasserstoffketten auf der Oberfläche unpolarer Materialien effizient aufgebrochen. Die photochemische Reaktion führt zu einer Vielzahl polarer hydrophiler Gruppen wie Hydroxyl- (-OH) und Carboxylgruppen (-COOH), wodurch die Oberflächenenergie des Materials signifikant erhöht wird. Das behandelte Substrat erfährt eine vollständige hydrophile Modifizierung, wobei sich Tröpfchen von Mikrokügelchen sofort in einen gleichmäßig benetzten Flüssigkeitsfilm auf der Oberfläche verwandeln.
Titan, Aluminiumfolie usw.
Siliziumwafer, ITO-Glassubstrate.
PP, PC, PE, PMMA, PET, PVC, PS.
Erleben Sie unsere fortschrittlichen Anwendungen für 172-nm-Excimerlichtquellen, präzise Qualitätsprüfungslinien und automatisierte Produktionsabläufe in Aktion.
Setzen Sie auf GMY für robuste 172-nm-Excimerlampen und individuell anpassbare Fotoreinigungssysteme, die auf Ihre Branchenstandards zugeschnitten sind.
