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VUV-Oberflächenreinigungsmodul

VUV-Oberflächenreinigungsmodul

  • 172nm excimer lamp module
    172-nm-Excimerlampenmodul, Halbleiterwafer- und Masken-UV-Reinigung, FMM/Invar-Filmmattierung
    Es entfernt organische Verunreinigungen im Nanobereich. Es findet breite Anwendung in der UV-Reinigung von Halbleiterwafern, der Reinigung von FMM-Feinmetallmasken, Invarmasken, OLED-Aufdampfmasken und Fotomasken. Weitere Anwendungsgebiete sind die UV-Reinigung von Leiterplatten und die Excimer-UV-Mattierung in Walzenbeschichtungsanlagen. Es stellt eine kostengünstige Alternative zu den 172-nm-Excimerlampen von Hamamatsu und Ushio dar.

    Wafer- und FMM-Reinigung

    Filmmatten und Beschichtungen

    Entfernung organischer Partikel von Kühlplatten

    Hydrophile Modifizierung

    MEHR ERFAHREN

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