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Modell :
MO-D330-6Garantie :
1 yearBestrahlungsstärke @1m :
>100 mW/cm²Gleichmäßigkeit :
±10%Zentrale Bestrahlungsstärke bei 172 nm :
>70 mW/cm² @3mmDurchschnittliche Nutzungsdauer (Bestrahlungsstärke ≥70 %) :
2,500 hrsGröße :
(350×350mm irradiation window)Betriebsfeuchtigkeit :
20%~80%Betriebstemperatur :
-5°C~30°CGesamtleistung :
1200W ±10%Eingangsspannung (V) :
AC 110~240VAls professioneller chinesischer Hersteller von Excimerlampen
VUV-Licht mit einer Wellenlänge von 172 nm ist stark oxidierend. Es zersetzt organische Verschmutzungen und kleinste Partikel auf Wafern – ohne Rückstände. Dies gewährleistet eine präzise Halbleiterfertigung.
172-nm-Excimerlampen emittieren hochenergetisches UV-Licht. Dieses entfernt Verunreinigungen von OLED-/Display-Panel-Masken und verhindert so Pixelfehler. Die Lampen sind mit den Produktionslinien von BOE und TCL CSOT kompatibel.
UV-Lampe zur Reinigung von FMM-Feinmetallmasken, 172-nm-Excimerlampe zur Reinigung von Invarmasken,
OLED-Aufdampfmaskenreinigung UV-Reinigung UV, 172 nm VUV-Metallmaskenreinigung
172-nm-VUV-Licht zersetzt organische Substanzen auf diesen Masken. Es beschädigt die Maskenstruktur nicht und gewährleistet so eine präzise Pixelpositionierung. Dies verbessert die Produktionsausbeute direkt.
172nm VUV-Walzenbeschichtungssystem, Excimer-UV-Mattierung.
UV-Licht mit einer Wellenlänge von 172 nm (Excimer) modifiziert die Folienoberfläche. Es erzeugt eine raue Textur für eine Mattierung und eine bessere Haftung der Beschichtung. Geeignet für die kontinuierliche Walzenbeschichtung.
Oberflächenbestrahlungsstärke > 100 mW/cm²; 70 mW/cm² (bei 3 mm). Entfernt organische Verunreinigungen effizient.
Hochwertige Elektroden und präzise Gasregelung. Über 2500 Stunden Grundlebensdauer. 1000 Stunden Garantie, Kapazitätserhaltung. < 30 %. Bis zu 3000 Stunden und mehr für den professionellen Einsatz.
Bestrahlungsfenster 350×350 mm, Gleichmäßigkeit ±10 %. Fenstergröße individuell anpassbar.
Kein Vorheizen erforderlich, sofortiger Start. Unterstützt Hochfrequenzbetrieb und Rolle-zu-Rolle-Walzenbeschichtungssysteme.
Zuverlässiger Betrieb bei -5 °C bis 30 °C, ideal für Reinräume und temperaturkontrollierte Bereiche.
Wir arbeiten mit verschiedenen Produktionsanlagen. Wir bieten maßgeschneiderte Lösungen mit schneller Lieferung und ohne Entwicklungskosten.
Verwendet eine quecksilberfreie UV-Lichtquelle mit einer Wellenlänge von 172 nm und gewährleistet so Sicherheit und Umweltschutz.
Gestützt auf 30 Jahre Erfahrung in der UV-Lichttechnik und Geräteherstellung, mit Produktionskapazitäten im großen Maßstab, hoher Produktkonstanz, stabiler Leistung und zuverlässiger, termingerechter Lieferung.
Zertifiziertes Qualitätsmanagementsystem zur Sicherstellung höchster Fertigungsstandards.
Vollständig konform mit den europäischen Rechtsvorschriften zu Gesundheit, Sicherheit und Umweltschutz.
Umweltfreundliche Herstellung, völlig frei von Schadstoffen.
Premium-Standard für elektrische Sicherheit und Brandschutz in Nordamerika.
Die 172-nm-VUV-Excimerlampe erzeugt hochenergetisches Vakuum-Ultraviolettlicht mittels Gasentladung. Sie zeichnet sich durch eine hohe Photonenenergie aus, die die Bindungsenergie gängiger organischer Moleküle weit übersteigt.
Dank seiner starken Fähigkeit, molekulare Bindungen zu spalten, zersetzt das Licht organische Schadstoffe direkt. Es erzeugt außerdem reaktive Sauerstoffspezies, um die Reinigungswirkung und die TOC-Entfernung zu verbessern.
Als zuverlässige Alternative zur Ushio-Excimerlampe und zur Hamamatsu 172nm-Lampe eignet sie sich für die Halbleiterreinigung, die Reinigung von Kühlplatten, die Wasseraufbereitung in CDUs und UPWs, die Filmmattenreinigung und andere industrielle Anwendungsbereiche.
Dieses umweltfreundliche, quecksilberfreie Produkt wurde für Reinstwassersysteme (UPW) entwickelt. 172-nm-VUV-Modul Es löst eine starke Radikaloxidation aus, um den TOC-Gehalt bis in den ppb-Bereich zu senken. Durch die Umwandlung organischer Verbindungen in Spuren von CO₂ und H₂O bietet es eine ideale Wasseraufbereitungslösung für die Halbleiter-, Pharma- und Laborindustrie. Sein intelligentes modulares Design vereinfacht die Wartung vor Ort und die Systemerweiterung; kundenspezifische Leistungsstufen und Durchflussraten werden vollständig unterstützt.
Verbessern Sie die Präzision Ihrer Oberflächenbehandlung mit GMYs 172-nm-ExcimerlampenNutzung fortschrittlicher Technologien photochemische OxidationUnsere quecksilberfreien 172nm UV-Lichtlösungen bauen organische Verunreinigungen effektiv ab und erreichen so atomare Reinheit auf Halbleiterwafern, Displaysubstraten und optischen Bauelementen.
Entdecken Sie die hohe Effizienz von GMY 172-nm-Excimerlampen für industrielle FotohärtungQuecksilberfreies, leistungsstarkes 350-1000-W-VUV-Licht für schnelle Oberflächenvernetzung, matte Veredelung und Modifizierung von PPF/PCB-Beschichtungen. Im Vergleich zur herkömmlichen UV-Härtung verkürzt es die Aushärtungszeit und verbessert die Oberflächenmodifizierungseffekte.
Der GMY 172nm Photomodifikationsmodul Dieses Modul ist die führende vakuumkompatible Lösung zur Aktivierung der Hydrophilie von Zahnimplantaten. Mithilfe präziser 172-nm-Excimer-Technologie reinigt es Titan-Oberflächen durch den Abbau organischer Kohlenwasserstoffe, wodurch die Bioaktivität von TiO₂ und die Osseointegration deutlich verbessert werden. Das Modul ist für die nahtlose Geräteintegration konzipiert und zeichnet sich durch hohe Leistung, minimale thermische Belastung, schnellen Reaktionszyklus und großflächige, homogene Strahlabdeckung aus.
GMY 172-nm-Excimerlampen bieten hochenergetische VUV-Strahlung an TOC abbauen Reinstwasser wird bis in den ppb-Bereich gereinigt. Quecksilberfreie 15-W-/20-W-Lampen für die industrielle Wasseraufbereitung. Unsere UV-Lichtsysteme oxidieren organische Stoffe durch die Erzeugung freier Radikale zu CO₂- und H₂O-Molekülen. Diese fortschrittliche Technologie eignet sich besonders für die Reinstwasserproduktion.
Der 172-nm-Excimer-UV-Bauelement liefert Hochenergetische Fotoreinigung Und Oberflächenmodifikation auf Nanoebene Für Halbleiter, Batterien und fortschrittliche Materialien. Dieses kompakte System nutzt kalte UV-Photonen mit einer Wellenlänge von 172 nm, um organische chemische Bindungen zu spalten und Verunreinigungen zu oxidieren, ohne das Substrat zu beschädigen. Mit einer hohen Gleichmäßigkeit von ±15% Bei Betriebstemperaturen unter 40°C bietet sie eine umweltfreundliche, energiesparende Alternative zu herkömmlichen Niederdruck-Quecksilberdampflampen.
