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172-nm-Excimer-Hochenergie-UV-Reinigungsgerät zur Oberflächenmodifizierung von Halbleiterbatterien
Semiconductor Surface Modification Device
dry organic contaminant removal machine

172-nm-Excimer-Hochenergie-UV-Reinigungsgerät zur Oberflächenmodifizierung von Halbleiterbatterien

Der 172-nm-Excimer-UV-Bauelement liefert Hochenergetische Fotoreinigung Und Oberflächenmodifikation auf Nanoebene Für Halbleiter, Batterien und fortschrittliche Materialien. Dieses kompakte System nutzt kalte UV-Photonen mit einer Wellenlänge von 172 nm, um organische chemische Bindungen zu spalten und Verunreinigungen zu oxidieren, ohne das Substrat zu beschädigen. Mit einer hohen Gleichmäßigkeit von ±15% Bei Betriebstemperaturen unter 40°C bietet sie eine umweltfreundliche, energiesparende Alternative zu herkömmlichen Niederdruck-Quecksilberdampflampen.

  • Modell :

    EX-C300

  • Betriebstemperatur :

    -5℃~50℃

  • Intensität (Abstand von der Bestrahlungsfläche 8 mm) :

    >45 mW/cm2

  • Stickstoffzufuhr :

    30Lpm

  • Gesamtleistung :

    <400W

  • Eingangsspannung (V) :

    AC220V
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  • Hauptmerkmale

    01 Hochgeschwindigkeitsreinigung

    Bietet die 10-fache Reinigungsgeschwindigkeit herkömmlicher Niederdruck-Quecksilberdampflampen und beschleunigt Inline- oder Batch-Verarbeitungszyklen erheblich.

    02 Individuelle Schaltung

    Ermöglicht das individuelle Schalten jedes Lampenmoduls je nach Bearbeitungsbreite, maximiert so die Energiebilanz und verlängert die Gesamtlebensdauer der Lampe.

    03 Betrieb bei niedrigen Temperaturen

    Verhindert thermische Schäden an wärmeempfindlichen Materialien und hält die Substratoberflächentemperatur konstant unter 40℃.

    04 Niedriger Energieverbrauch

    Eine äußerst umweltfreundliche Architektur, die 65 % weniger Energie verbraucht als herkömmliche Quecksilberdampflampen, ohne dabei an Lichtintensität einzubüßen.

    05 Platzsparend

    Verfügt über ein äußerst kompaktes Netzteil, das das gesamte Behandlungssystem mühelos in beengten automatisierten Produktionslinien unterstützt.

    06 Einfache Wartung

    Entwickelt für mühelose routinemäßige Reinigung und Wartung, ermöglicht es den Bedienern, einen schnellen Lampenwechsel durchzuführen und so Betriebsausfallzeiten zu vermeiden.

    07 Hohe Gleichmäßigkeit

    Gewährleistet eine Gleichmäßigkeit der Bestrahlungsstärke von ±15 % über den gesamten Bestrahlungsbereich und erhöht so die Stabilität der Chargenverarbeitung deutlich.

     

    172 nm Hochenergetisches UV-Gerät

     

    Das 172-nm-Hochenergie-Vakuum-Ultraviolett-(UV)-Excimersystem stellt einen Paradigmenwechsel dar in
    Trockene industrielle Reinigung und Oberflächenmodifizierung im atomaren Maßstab.
    Konzipiert für die Bereiche Halbleitergehäuse, Lithium-Ionen-Batterieentwicklung und Displayherstellung,
    Dieses photonische Hochenergiesystem zielt auf die molekulare Struktur organischer Oberflächenverunreinigungen ab.
    ohne Veränderung der Substrat-Bulk-Eigenschaften.
     
    Durch die Erzeugung intensiver Photonen mit einer Wellenlänge von 172 nm erzielt das System einen doppelt wirkenden Reinigungsmechanismus:
    direkte Spaltung kritischer organischer chemischer Bindungen (C=C, CH, OH) bei gleichzeitiger Erzeugung hochreaktiver Singulett-Sauerstoff- und Ozoncluster aus Umgebungsluft oder stickstoffgespülten Umgebungen.
    Die entstehenden flüchtigen Oxide lassen sich sauber ablösen, sodass eine ultrareine, hochhydrophile Oberfläche entsteht, die für Mikrobonding-, Beschichtungs- oder Abscheidungsprozesse geeignet ist.

    --------------占位---------------

    OPERATIONSVIDEO

    Zertifizierungen & Konformität

    ISO Certificate
    ISO

    ISO 9001/14001

    Zertifizierte Qualitäts- und Umweltmanagementsysteme gewährleisten eine einheitliche Produktionskalibrierung.

    CE Certified Declaration
    CE

    CE-zertifiziert

    Vollständig konform mit den europäischen Standards für Arbeitsschutz, Systemsicherheit und Arbeitssicherheit.

    ROHS Compliance Certificate
    RoHS

    RoHS-konform

    Umweltfreundliche Hardwarearchitektur, frei von Blei, Quecksilber und eingeschränkten gefährlichen Schwermetallen.

    UL Safety Certificate
    UL

    UL-zertifiziert

    Erfüllt die strengen nordamerikanischen Kriterien für elektrische Isolierung, Erdung und Betriebssicherheit.

    Häufig gestellte Fragen

    Q Warum sollte man sich für 172-nm-Excimerlampen mit einer einzigen Wellenlänge anstelle herkömmlicher Niederdruck-Quecksilberdampflampen entscheiden?

    Herkömmliche Quecksilberdampflampen emittieren breite Wellenlängen bei 185 nm und 254 nm, die stark auf sekundären Ozonreaktionen beruhen. Unser spezielles 172-nm-Excimersystem projiziert eine Photonenenergie von 7,2 eV, die direkt der Energie kovalenter Bindungen gängiger organischer Schadstoffe (C=C, CH) entspricht und diese aufbricht. Dadurch werden bis zu 10-mal schnellere Trockenreinigungsraten erzielt und die Risiken hoher thermischer Strahlung eliminiert.

    Q Wie verhindert die Einzelschaltfunktion eine vorzeitige Lampenalterung?

    Im Gegensatz zu sequenziellen Reihenschaltungen, bei denen der Ausfall einer Lampe die gesamte Anlage beeinträchtigt, leitet unser System isolierte elektrische Vorschaltgeräte an jede einzelne Röhre. Anwender können Module unabhängig voneinander je nach Substratbreite umschalten, was die Laufzeiten der Struktur verlängert und den gezielten Austausch vor Ort ohne Ausfallzeiten vereinfacht.

    Q Welche grundlegenden Umweltanforderungen gelten für den Betrieb des EX-C300-Systems?

    Das industrielle Gerät EX-C300 benötigt eine 220-V-Wechselstromversorgung, arbeitet bei Standard-Umgebungstemperaturen (-5 °C bis 50 °C) und verfügt über einen regulären 25 °C-Wasserkreislauf zur Kühlung. Um die Leistung der VUV-Bestrahlung zu optimieren und eine Oxidation der Fenster im Inneren zu verhindern, wird ein stabiler Stickstoff-Gasstrom (N₂) von 30 l/min während der Bestrahlungszyklen empfohlen.
HEISSE TAGS :

UV-Oberflächenreinigungsgerät

Fotoreinigungsmaschine

Hochenergie-UV-Gerät

172 nm Excimerlicht

Gerät zur Materialoberflächenbehandlung

Gerät zur Oberflächenbehandlung von Batteriematerialien

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