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Der GMY 172nm Photomodifikationsmodul Dieses Modul ist die führende vakuumkompatible Lösung zur Aktivierung der Hydrophilie von Zahnimplantaten. Mithilfe präziser 172-nm-Excimer-Technologie reinigt es Titan-Oberflächen durch den Abbau organischer Kohlenwasserstoffe, wodurch die Bioaktivität von TiO₂ und die Osseointegration deutlich verbessert werden. Das Modul ist für die nahtlose Geräteintegration konzipiert und zeichnet sich durch hohe Leistung, minimale thermische Belastung, schnellen Reaktionszyklus und großflächige, homogene Strahlabdeckung aus.
Lagertemperatur (℃) :
-40Vakuumgrad (kPa) :
50Anlaufzeit (s) :
0.7Arbeitszeit (s) :
10Nutzungsdauer (mal) :
10000Eingangsleistung :
120Eingangsstrom (A) :
5Eingangsspannung (V) :
DC24Die hochenergetische 172-nm-Ausgangsleistung verkürzt die Behandlungsdauer drastisch.
Der Betrieb mit Kaltlicht schützt die Materialien vor Hitzeschäden.
Eine großflächige und gleichmäßige Abdeckung garantiert eine makellose Modifikation bis in die Ecken.
Der schnelle Startvorgang sorgt für sofortige Leistung ohne Wartezeit.
Entwickelt für langfristige Belastbarkeit und einwandfreien, unterbrechungsfreien Betrieb.
Behält auch unter extremen Vakuum- und Kältebedingungen eine hohe Konsistenz bei.
Flexible, kundenspezifische F&E-Lösungen, die exakt auf Ihre Produktanforderungen zugeschnitten sind.
Nutzt 172nm VUV-Licht zur effizienten Entfernung von Kohlenwasserstoffen, Ölen und organischen Rückständen von Materialoberflächen.
Verbessert die Benetzbarkeit der Oberfläche und die Haftungseigenschaften bei Beschichtungs- und Klebeanwendungen.
Zertifiziertes Qualitätsmanagementsystem zur Sicherstellung höchster Fertigungsstandards.
Vollständig konform mit den europäischen Rechtsvorschriften zu Gesundheit, Sicherheit und Umweltschutz.
Umweltfreundliche Herstellung, völlig frei von Schadstoffen.
Premium-Standard für elektrische Sicherheits- und Brandschutzmaßnahmen in Nordamerika.
Dieses umweltfreundliche, quecksilberfreie Produkt wurde für Reinstwassersysteme (UPW) entwickelt. 172-nm-VUV-Modul Es löst eine starke Radikaloxidation aus, um den TOC-Gehalt bis in den ppb-Bereich zu senken. Durch die Umwandlung organischer Verbindungen in Spuren von CO₂ und H₂O bietet es eine ideale Wasseraufbereitungslösung für die Halbleiter-, Pharma- und Laborindustrie. Sein intelligentes modulares Design vereinfacht die Wartung vor Ort und die Systemerweiterung; kundenspezifische Leistungsstufen und Durchflussraten werden vollständig unterstützt.
Verbessern Sie die Präzision Ihrer Oberflächenbehandlung mit GMYs 172-nm-ExcimerlampenNutzung fortschrittlicher Technologien photochemische OxidationUnsere quecksilberfreien 172nm UV-Lichtlösungen bauen organische Verunreinigungen effektiv ab und erreichen so atomare Reinheit auf Halbleiterwafern, Displaysubstraten und optischen Bauelementen.
Entdecken Sie die hohe Effizienz von GMY 172-nm-Excimerlampen für industrielle FotohärtungQuecksilberfreies, leistungsstarkes 350-1000-W-VUV-Licht für schnelle Oberflächenvernetzung, matte Veredelung und Modifizierung von PPF/PCB-Beschichtungen. Im Vergleich zur herkömmlichen UV-Härtung verkürzt es die Aushärtungszeit und verbessert die Oberflächenmodifizierungseffekte.
Der GMY 172nm Photomodifikationsmodul Dieses Modul ist die führende vakuumkompatible Lösung zur Aktivierung der Hydrophilie von Zahnimplantaten. Mithilfe präziser 172-nm-Excimer-Technologie reinigt es Titan-Oberflächen durch den Abbau organischer Kohlenwasserstoffe, wodurch die Bioaktivität von TiO₂ und die Osseointegration deutlich verbessert werden. Das Modul ist für die nahtlose Geräteintegration konzipiert und zeichnet sich durch hohe Leistung, minimale thermische Belastung, schnellen Reaktionszyklus und großflächige, homogene Strahlabdeckung aus.
GMY 172-nm-Excimerlampen bieten hochenergetische VUV-Strahlung an TOC abbauen Reinstwasser wird bis in den ppb-Bereich gereinigt. Quecksilberfreie 15-W-/20-W-Lampen für die industrielle Wasseraufbereitung. Unsere UV-Lichtsysteme oxidieren organische Stoffe durch die Erzeugung freier Radikale zu CO₂- und H₂O-Molekülen. Diese fortschrittliche Technologie eignet sich besonders für die Reinstwasserproduktion.
Der 172-nm-Excimer-UV-Bauelement liefert Hochenergetische Fotoreinigung Und Oberflächenmodifikation auf Nanoebene Für Halbleiter, Batterien und fortschrittliche Materialien. Dieses kompakte System nutzt kalte UV-Photonen mit einer Wellenlänge von 172 nm, um organische chemische Bindungen zu spalten und Verunreinigungen zu oxidieren, ohne das Substrat zu beschädigen. Mit einer hohen Gleichmäßigkeit von ±15% Bei Betriebstemperaturen unter 40°C bietet sie eine umweltfreundliche, energiesparende Alternative zu herkömmlichen Niederdruck-Quecksilberdampflampen.
