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Dieses umweltfreundliche, quecksilberfreie Produkt wurde für Reinstwassersysteme (UPW) entwickelt. 172-nm-VUV-Modul Es löst eine starke Radikaloxidation aus, um den TOC-Gehalt bis in den ppb-Bereich zu senken. Durch die Umwandlung organischer Verbindungen in Spuren von CO₂ und H₂O bietet es eine ideale Wasseraufbereitungslösung für die Halbleiter-, Pharma- und Laborindustrie. Sein intelligentes modulares Design vereinfacht die Wartung vor Ort und die Systemerweiterung; kundenspezifische Leistungsstufen und Durchflussraten werden vollständig unterstützt.
Behandlungsgleichmäßigkeit :
±10%172 nm Bestrahlungsstärke (Mittelpunkt) :
>20 mW/cm² (@1mm)Durchschnittliche Nutzungsdauer :
1,000 hrs (irradiance ≥70%)Betriebsspannung :
AC 2.0kV +20%Lampenleistung :
20W ±10%172-nm-Excimer-Modul zur Entfernung organischer Partikel von KI-Kühlplatten, zur Reduzierung des TOC-Gehalts in CDU-Wasser und zur Reinstwasseraufbereitung
Das GMY 172nm VUV-Excimerlampenmodul wurde für zwei kritische Anwendungen in der Flüssigkeitskühlung und Wasseraufbereitung in der KI-Infrastruktur entwickelt: (1) Entfernung organischer Partikel von Kühlplatten von KI-Servern – der 172nm Vakuum-Ultraviolett-Photonenstrom zersetzt photolytisch organische Moleküle auf den Oberflächen der Kühlplatten und reduziert so die Anzahl und Größe der Partikel im Flüssigkeitskühlkreislauf drastisch; und (2) Reduzierung des TOC-Gehalts im CDU-Zusatzwasser – durch den Betrieb innerhalb der CDU-Wasserleitungen erzeugt es eine radikalische Oxidation, um den gesamten organischen Kohlenstoffgehalt in Reinstwasser auf ppb-Werte zu reduzieren und so die chemische Dosierung zu ersetzen.
Als quecksilberfreies, sofort einschaltbares Modul mit einer Leistung von >20 mW/cm² bei 1 mm dient es als kostengünstige Alternative aus China mit vollständiger OEM-Anpassung hinsichtlich Durchflussrate, Leistung und Schnittstellengröße.
UNSERE Vorteile:
172-nm-VUV-Photonen photolysieren organische Verunreinigungen direkt auf den Oberflächen der Kühlplatten und reduzieren so sowohl die Größe als auch die Anzahl organischer Partikel im Flüssigkeitskühlkreislauf. Dieses UV-gestützte Reinigungsverfahren für Kühlplatten ersetzt oder ergänzt die chemische Spülung und gewährleistet die thermische Leistung von KI-Servern sowie die Zuverlässigkeit des CDU-Systems.
Ein 172-nm-UV-Modul wird direkt in die Nachspeisewasserkreisläufe der Kühlverteilungseinheit (CDU) integriert. Es erzeugt radikalische Oxidation, um gelöste organische Verbindungen abzubauen, den TOC-Wert auf einstellige ppb-Werte zu senken und die Belastung des zirkulierenden Kühlwassers mit organischen Partikeln zu reduzieren.
Ziel: Entfernung von TOC aus CDU-Aufgusswasser mittels UV-/172-nm-UV-Lampe zur CDU-Wasseraufbereitung
Für Reinstwasserkreisläufe in Halbleiterfabriken: 172-nm-VUV-Photonen oxidieren Spuren organischer Moleküle schnell zu CO₂ und H₂O und ermöglichen so eine TOC-Kontrolle im ppb-Bereich. Erfüllt die Reinheitsanforderungen des ITRS-7-nm/5-nm-Roadmaps.
Ziel: Entfernung von TOC aus Reinstwasser mittels UV-Lampe / Reduzierung des TOC-Gehalts durch UV-Strahlung
Kompakter 172-nm-VUV-Kern zur organischen Mineralisierung für hochwertige Laborwasseraufbereitungsanlagen. Modulares Stecksystem für einfache Integration und Austausch.
Liefert 20 mW/cm² (@1mm) für eine schnelle TOC-Reduzierung auf ppb-Niveau.
Entwickelt für stabile, langfristige Industriezyklen, wobei die Intensität über 1.000 Stunden ≥70 % erhalten bleibt.
Beschränkt die Abweichungen auf enge Grenzwerte, um eine homogene Wasserreinigung zu gewährleisten.
Verwendet eine korrosionsbeständige Quarzhülse und einen modularen Aufbau, um die Kosten für die Installation und den Austausch von Rohrleitungen drastisch zu reduzieren.
In Bezug auf Leistungsfähigkeit, Schnittstellengröße und Montagearten individuell anpassbar, um spezifischen Durchflussmengen gerecht zu werden.
Setzt auf umweltfreundliche, quecksilberfreie 172-nm-Technologie, um globale Umweltauflagen zu erfüllen.
Gestützt auf umfassende Expertise in der VUV-Fertigung, gewährleisten wir eine hohe Chargenkonstanz und pünktliche weltweite Lieferung.
Zertifiziertes Qualitätsmanagementsystem zur Sicherstellung höchster Fertigungsstandards.
Vollständig konform mit den europäischen Rechtsvorschriften zu Gesundheit, Sicherheit und Umweltschutz.
Umweltfreundliche Herstellung, völlig frei von Schadstoffen.
Premium-Standard für elektrische Sicherheits- und Brandschutzmaßnahmen in Nordamerika.
Dieses umweltfreundliche, quecksilberfreie Produkt wurde für Reinstwassersysteme (UPW) entwickelt. 172-nm-VUV-Modul Es löst eine starke Radikaloxidation aus, um den TOC-Gehalt bis in den ppb-Bereich zu senken. Durch die Umwandlung organischer Verbindungen in Spuren von CO₂ und H₂O bietet es eine ideale Wasseraufbereitungslösung für die Halbleiter-, Pharma- und Laborindustrie. Sein intelligentes modulares Design vereinfacht die Wartung vor Ort und die Systemerweiterung; kundenspezifische Leistungsstufen und Durchflussraten werden vollständig unterstützt.
Verbessern Sie die Präzision Ihrer Oberflächenbehandlung mit GMYs 172-nm-ExcimerlampenNutzung fortschrittlicher Technologien photochemische OxidationUnsere quecksilberfreien 172nm UV-Lichtlösungen bauen organische Verunreinigungen effektiv ab und erreichen so atomare Reinheit auf Halbleiterwafern, Displaysubstraten und optischen Bauelementen.
Entdecken Sie die hohe Effizienz von GMY 172-nm-Excimerlampen für industrielle FotohärtungQuecksilberfreies, leistungsstarkes 350-1000-W-VUV-Licht für schnelle Oberflächenvernetzung, matte Veredelung und Modifizierung von PPF/PCB-Beschichtungen. Im Vergleich zur herkömmlichen UV-Härtung verkürzt es die Aushärtungszeit und verbessert die Oberflächenmodifizierungseffekte.
Der GMY 172nm Photomodifikationsmodul Dieses Modul ist die führende vakuumkompatible Lösung zur Aktivierung der Hydrophilie von Zahnimplantaten. Mithilfe präziser 172-nm-Excimer-Technologie reinigt es Titan-Oberflächen durch den Abbau organischer Kohlenwasserstoffe, wodurch die Bioaktivität von TiO₂ und die Osseointegration deutlich verbessert werden. Das Modul ist für die nahtlose Geräteintegration konzipiert und zeichnet sich durch hohe Leistung, minimale thermische Belastung, schnellen Reaktionszyklus und großflächige, homogene Strahlabdeckung aus.
GMY 172-nm-Excimerlampen bieten hochenergetische VUV-Strahlung an TOC abbauen Reinstwasser wird bis in den ppb-Bereich gereinigt. Quecksilberfreie 15-W-/20-W-Lampen für die industrielle Wasseraufbereitung. Unsere UV-Lichtsysteme oxidieren organische Stoffe durch die Erzeugung freier Radikale zu CO₂- und H₂O-Molekülen. Diese fortschrittliche Technologie eignet sich besonders für die Reinstwasserproduktion.
Der 172-nm-Excimer-UV-Bauelement liefert Hochenergetische Fotoreinigung Und Oberflächenmodifikation auf Nanoebene Für Halbleiter, Batterien und fortschrittliche Materialien. Dieses kompakte System nutzt kalte UV-Photonen mit einer Wellenlänge von 172 nm, um organische chemische Bindungen zu spalten und Verunreinigungen zu oxidieren, ohne das Substrat zu beschädigen. Mit einer hohen Gleichmäßigkeit von ±15% Bei Betriebstemperaturen unter 40°C bietet sie eine umweltfreundliche, energiesparende Alternative zu herkömmlichen Niederdruck-Quecksilberdampflampen.
