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Der 172nm MINl Excimermodul ist eine kompakte, sofort einsatzbereite Desktop-Lösung für Halbleiter-Forschung und -Entwicklung Und LaborvalidierungDurch die Abgabe von kurzwelliger Vakuum-Ultraviolettstrahlung (VUV) werden Molekülbindungen gespalten, um organische Verunreinigungen zu eliminieren und die Oberflächenenergie zu modifizieren, ohne das Substrat zu beschädigen. Dadurch bietet das Gerät eine flexible Plattform zur Prozessvalidierung für Forschungslabore und Universitäten.
Modell :
EX-D75-1Zentrale Bestrahlungsstärke (@1mm) :
>10mW/cm²Gleichmäßigkeit der Bestrahlungsstärke :
±10%Zeit bis zum Erreichen von 90 % der Leistung :
≤5 secondsDurchschnittliche Lampenlebensdauer :
>1000 hoursKühlmethode :
Air coolingModulabmessungen (L×B×H) :
209×142×69 mmFensteröffnungsgröße (L×B) :
75×50 mm
Die Forschungs- und Entwicklungsteams nutzen das EX-C300, um die optimalen VUV-Parameter für 172 nm – Dosis, Arbeitsabstand und Zykluszeit – für die Aktivierung von Die-Attach-, Flip-Chip- und Hybrid-Bonding-Oberflächen einzustellen. Das Tischgerät liefert reproduzierbare Oberflächenenergiedaten und ermöglicht so die Erstellung eines validierten Bonding-Rezepts vor der Produktionsübergabe.
Forscher behandeln unbeschichtete und strukturierte Testwafer mit 172-nm-VUV-Photonen, um vor ALD-, CVD- oder PVD-Beschichtungen Reinheits-Baselines zu ermitteln. Der Betrieb unter 40 °C eliminiert jegliches thermisches Budgetrisiko, während XPS- und Kontaktwinkelmessungen nach der Behandlung die minimale effektive Dosis für die Prozessqualifizierung definieren.
Das EX-C300 entfernt organische Ablagerungen auf Feinmetallmasken und Fotomasken durch rein photochemische Oxidation – berührungslos, ohne Chemikalien, ohne Rückstände. Iterative Versuche bestätigen, dass die Maskenstrukturen im Nanometerbereich erhalten bleiben und definieren sichere kumulative Dosis- und Zyklusgrenzen für die Serienproduktion.
In den Forschungs- und Entwicklungslaboren für Filme und Batterien werden Polymerfilme (PET, PI, COP) und Elektrodenfolien mit kontrollierter 172-nm-Belichtung behandelt. Anschließend werden die Reduzierung des Kontaktwinkels und die Haftungsverbesserung gemessen. Das Kaltphotonenverfahren vermeidet thermische Schäden an empfindlichen Materialien, und die gewonnenen Daten fließen direkt in die Produktionsprozesse ein – von der Laborphase bis zur Fertigung.
Kompakt und leicht, sofort einsatzbereites Plug-and-Play-Design für den Desktop-Einsatz.
Hochintensive UV-Strahlung bei 172 nm, schnelle, stabile Zündung in 5 Sekunden.
Gleichmäßige Bestrahlungsstärke für konsistente und zuverlässige Verarbeitungsergebnisse.
Luftgekühlt, kein externes Kühlsystem erforderlich.
Anpassbare Anwendungslösungen und Auftragsforschungsdienstleistungen verfügbar.
Zertifiziertes Qualitätsmanagementsystem zur Sicherstellung höchster Fertigungsstandards.
Vollständig konform mit den europäischen Rechtsvorschriften zu Gesundheit, Sicherheit und Umweltschutz.
Umweltfreundliche Herstellung, völlig frei von Schadstoffen.
Erfüllt die strengen nordamerikanischen Kriterien für elektrische Isolierung, Erdung und Betriebssicherheit.
Dieses umweltfreundliche, quecksilberfreie Produkt wurde für Reinstwassersysteme (UPW) entwickelt. 172-nm-VUV-Modul Es löst eine starke Radikaloxidation aus, um den TOC-Gehalt bis in den ppb-Bereich zu senken. Durch die Umwandlung organischer Verbindungen in Spuren von CO₂ und H₂O bietet es eine ideale Wasseraufbereitungslösung für die Halbleiter-, Pharma- und Laborindustrie. Sein intelligentes modulares Design vereinfacht die Wartung vor Ort und die Systemerweiterung; kundenspezifische Leistungsstufen und Durchflussraten werden vollständig unterstützt.
Verbessern Sie die Präzision Ihrer Oberflächenbehandlung mit GMYs 172-nm-ExcimerlampenNutzung fortschrittlicher Technologien photochemische OxidationUnsere quecksilberfreien 172nm UV-Lichtlösungen bauen organische Verunreinigungen effektiv ab und erreichen so atomare Reinheit auf Halbleiterwafern, Displaysubstraten und optischen Bauelementen.
Entdecken Sie die hohe Effizienz von GMY 172-nm-Excimerlampen für industrielle FotohärtungQuecksilberfreies, leistungsstarkes 350-1000-W-VUV-Licht für schnelle Oberflächenvernetzung, matte Veredelung und Modifizierung von PPF/PCB-Beschichtungen. Im Vergleich zur herkömmlichen UV-Härtung verkürzt es die Aushärtungszeit und verbessert die Oberflächenmodifizierungseffekte.
Der GMY 172nm Photomodifikationsmodul Dieses Modul ist die führende vakuumkompatible Lösung zur Aktivierung der Hydrophilie von Zahnimplantaten. Mithilfe präziser 172-nm-Excimer-Technologie reinigt es Titan-Oberflächen durch den Abbau organischer Kohlenwasserstoffe, wodurch die Bioaktivität von TiO₂ und die Osseointegration deutlich verbessert werden. Das Modul ist für die nahtlose Geräteintegration konzipiert und zeichnet sich durch hohe Leistung, minimale thermische Belastung, schnellen Reaktionszyklus und großflächige, homogene Strahlabdeckung aus.
GMY 172-nm-Excimerlampen bieten hochenergetische VUV-Strahlung an TOC abbauen Reinstwasser wird bis in den ppb-Bereich gereinigt. Quecksilberfreie 15-W-/20-W-Lampen für die industrielle Wasseraufbereitung. Unsere UV-Lichtsysteme oxidieren organische Stoffe durch die Erzeugung freier Radikale zu CO₂- und H₂O-Molekülen. Diese fortschrittliche Technologie eignet sich besonders für die Reinstwasserproduktion.
Der 172-nm-Excimer-UV-Bauelement liefert Hochenergetische Fotoreinigung Und Oberflächenmodifikation auf Nanoebene Für Halbleiter, Batterien und fortschrittliche Materialien. Dieses kompakte System nutzt kalte UV-Photonen mit einer Wellenlänge von 172 nm, um organische chemische Bindungen zu spalten und Verunreinigungen zu oxidieren, ohne das Substrat zu beschädigen. Mit einer hohen Gleichmäßigkeit von ±15% Bei Betriebstemperaturen unter 40°C bietet sie eine umweltfreundliche, energiesparende Alternative zu herkömmlichen Niederdruck-Quecksilberdampflampen.
